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國家天文臺發(fā)現(xiàn)最新銀河系氫柱密度與光學消光比率

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國家天文臺發(fā)現(xiàn)最新銀河系氫柱密度與光學消光比率

摘要:   銀河系氫柱密度(NH)與光學消光(Av)的比率,這個學習銀河系結構必不可少的重要參數(shù)最近被中國科學院國家天文臺的學習人員更精確地測到了,該學習論文第一作者為國家天文臺博士朱輝,合作者為田文武、李愛根和 ...

  銀河系氫柱密度(NH)與光學消光(Av)的比率,這個學習銀河系結構必不可少的重要參數(shù)最近被中國科學院國家天文臺的學習人員更精確地測到了,該學習論文第一作者為國家天文臺博士朱輝,合作者為田文武、李愛根和張孟飛。
  朱輝及合作者以超新星遺跡、行星狀星云和X射線雙星為探針,學習了銀河系內(nèi)由X射線吸收得到的氫柱密度與V波段消光的比率。他們發(fā)現(xiàn)這一比值大體上不隨星際介質(zhì)所處的空間位置和物理參數(shù)變化而變化,而由該比值得到的銀河系平均氣塵比較以往預想的要大10%至30%。該項學習還給出了銀盤上氣體的標高、數(shù)密度和面密度等物理參數(shù)。這些新的參數(shù)值將對河系結構的學習、塵埃模型的構建以及X射線天體光學對應體的尋找,產(chǎn)生重要影響。
  宇宙空間中到處都充斥著星際介質(zhì)。天體發(fā)射的光在到達地球前,會被星際介質(zhì)吸收或者散射掉一局部,從而導致我們觀測到的天體亮度比預想的更暗,這個過程通常被稱作星際消光。它在估計宇宙天體的內(nèi)稟亮度,學習星際介質(zhì)的光電加熱效率以及成分組成都起到至關重要的作用。在光學波段,消光主要由介質(zhì)中的塵埃產(chǎn)生。消光大小受到塵埃的總質(zhì)量、成分組成和尺寸分布的影響。而在X射線波段(0.5keV),吸收主要由處于未完全電離狀態(tài)的氧、鎂、硅、鐵等重元素產(chǎn)生。因此光學波段的消光(以V波段消光Av表示)可以用來示蹤星際介質(zhì)中的塵埃成分,而X射線吸收(以氫的柱密度NH表示)則主要表征了處于原子、分子和電離三種狀態(tài)的氣體成分。兩者的比值可以用來限制星際介質(zhì)的組成以及塵埃模型。
  當前,被廣泛采用的NH-Av比值是由Bohlin等人在1978年得到的,他們通過對75個色余小于0.5星等的恒星在紫外波段的吸收得到NH/Av為1.87×1021cm-2mag-1H。這個工作只考慮了中性氣體和分子氣體的貢獻,而忽略了電離氣體的影響。采用X射線吸收估計NH恰好可以彌補這個工作的缺乏,同時也可以將該學習推廣到更大的空間范圍內(nèi)(色余最大為4.2星等)。在考慮太陽豐度(solar abundance)和小于太陽豐度(subsolar abundance)兩種情況下,X射線吸收給出的NH/Av分別為(2.08±0.02)×1021cm-2mag-1H和(2.47±0.04)×1021cm-2mag-1H。顯著大于之前的結果。
  該學習已被國際期刊英國皇家天文學會月刊(MNRAS)在線發(fā)表。



  考慮星際介質(zhì)為太陽豐度時,銀河系消光柱密度比率。黑色實線與紅色虛線分別是不同擬合模型的結果。



  考慮星際介質(zhì)為太陽豐度時,銀河系消光柱密度比率在銀經(jīng)-銀緯平面的投影。



  在距銀心2-10kpc范圍內(nèi),垂直銀盤方向氣體可以用標高為75.5±12.4pc,銀道面數(shù)密度為1.1至1.3cm-2的高斯函數(shù)表示。對應的面密度為7至8M⊙pc-2。國家天文臺發(fā)現(xiàn)最新銀河系氫柱密度與光學消光比率  |  責任編輯:蟲子
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