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芯片失效分析常用設(shè)備與方法

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芯片失效分析常用設(shè)備與方法

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前言:
隨著社會(huì)不斷進(jìn)步,電子支付在我們的生活中越來(lái)越廣泛,電子支付在給我們帶來(lái)便利的同時(shí),也面臨著隨之而來(lái)的風(fēng)險(xiǎn)。安防領(lǐng)域的安全提升離不開(kāi)芯片技術(shù)的發(fā)展,為能讓更多人了解芯片失效分析,本文主要介紹芯片失效分析相關(guān)的設(shè)備及方法。
一、為什么要進(jìn)行芯片測(cè)試?
芯片測(cè)試是一個(gè)比較大的問(wèn)題,直接貫穿整個(gè)芯片設(shè)計(jì)與量產(chǎn)的過(guò)程中。 首先芯片fail可以是下面幾個(gè)方面:功能fail,某個(gè)功能點(diǎn)點(diǎn)沒(méi)有實(shí)現(xiàn),這往往是設(shè)計(jì)上導(dǎo)致的,通常是在設(shè)計(jì)階段前仿真來(lái)對(duì)功能進(jìn)行驗(yàn)證來(lái)保證,所以通常設(shè)計(jì)一塊芯片,仿真驗(yàn)證會(huì)占用大約80%的時(shí)間。 性能fail,某個(gè)性能指標(biāo)要求沒(méi)有過(guò)關(guān),比如2G的cpu只能跑到1.5G,數(shù)模轉(zhuǎn)換器在要求的轉(zhuǎn)換速度和帶寬的條件下有效位數(shù)enob要達(dá)到12位,卻只有10位,以及l(fā)na的noise figure指標(biāo)不達(dá)標(biāo)等等。這種問(wèn)題通常是由兩方面的問(wèn)題導(dǎo)致的,一個(gè)是前期在設(shè)計(jì)系統(tǒng)時(shí)就沒(méi)做足余量,一個(gè)就是物理實(shí)現(xiàn)版圖太爛。這類問(wèn)題通常是用后仿真來(lái)進(jìn)行驗(yàn)證的。生產(chǎn)導(dǎo)致的fail。這個(gè)問(wèn)題出現(xiàn)的原因就要提到單晶硅的生產(chǎn)了。學(xué)過(guò)半導(dǎo)體物理的都知道單晶硅是規(guī)整的面心立方結(jié)構(gòu),它有好幾個(gè)晶向,通常我們生長(zhǎng)單晶是是按照111晶向進(jìn)行提拉生長(zhǎng)。但是由于各種外界因素,比如溫度,提拉速度,以及量子力學(xué)的各種隨機(jī)性,導(dǎo)致生長(zhǎng)過(guò)程中會(huì)出現(xiàn)錯(cuò)位,這個(gè)就稱為缺陷。缺陷產(chǎn)生還有一個(gè)原因就是離子注入導(dǎo)致的,即使退火也未能校正過(guò)來(lái)的非規(guī)整結(jié)構(gòu)。這些存在于半導(dǎo)體中的問(wèn)題,會(huì)導(dǎo)致器件的失效,進(jìn)而影響整個(gè)芯片。所以為了在生產(chǎn)后能夠揪出失效或者半失效的芯片,就會(huì)在設(shè)計(jì)時(shí)加入專門(mén)的測(cè)試電路,比如模擬里面的testmux,數(shù)字里面的scan chain(測(cè)邏輯),mbist(測(cè)存儲(chǔ)),boundry scan(測(cè)io及binding),來(lái)保證交付到客戶手上的都是ok的芯片。而那些失效或半失效的產(chǎn)品要么廢棄,要么進(jìn)行閹割后以低端產(chǎn)品賣(mài)出。 這些芯片fail要被檢測(cè)出來(lái),就必須要進(jìn)行芯片測(cè)試了。
二、芯片測(cè)試在什么環(huán)節(jié)進(jìn)行?
現(xiàn)在芯片面積越來(lái)越大,測(cè)試相當(dāng)具有挑戰(zhàn)性。所以如何測(cè)試其實(shí)是一門(mén)很深的學(xué)問(wèn)。由于信號(hào)過(guò)多,不可能把每個(gè)信號(hào)都引出來(lái)測(cè)試,所以肯定在設(shè)計(jì)的時(shí)候就要做可測(cè)性實(shí)際,就是DFT。 DFT簡(jiǎn)而言之,DFT就是通過(guò)某種方法間接觀察內(nèi)部信號(hào)的情況,例如scan chain之類。然后通過(guò)特定的測(cè)試儀器來(lái)測(cè)試這種儀器不是簡(jiǎn)單的示波器,它要能產(chǎn)生各種測(cè)試波形并檢測(cè)輸出,所以一套平臺(tái)大概要上百萬(wàn)。而且這些DFT比較適合于小芯片,大芯片像CPU之類的還會(huì)使用內(nèi)建自測(cè)試(built-in self test),讓芯片自己在上電后可以執(zhí)行測(cè)試,這樣就大大減小了測(cè)試人員的工作量。 DFT測(cè)試通過(guò)之后,就到正式的芯片測(cè)試環(huán)節(jié)了。 一般是從測(cè)試的對(duì)象上分為WAT、CP、FT三個(gè)階段,簡(jiǎn)單的說(shuō), 因?yàn)榉庋b也是有cost的, 為了盡可能的節(jié)約成本, 可能會(huì)在芯片封裝前, 先進(jìn)行一部分的測(cè)試, 以排除掉一些壞掉的芯片. 而為了保證出廠的芯片都是沒(méi)問(wèn)題的, final test也即FT測(cè)試是最后的一道攔截, 也是必須的環(huán)節(jié). WAT: Wafer Acceptance Test,是晶圓出廠前對(duì)testkey的測(cè)試。采用標(biāo)準(zhǔn)制程制作的晶圓,在芯片之間的劃片道上會(huì)放上預(yù)先一些特殊的用于專門(mén)測(cè)試的圖形叫testkey。這跟芯片本身的功能是沒(méi)有關(guān)系的,它的作用是Fab檢測(cè)其工藝上有無(wú)波動(dòng)。因?yàn)榇S只負(fù)責(zé)他自己的工作是無(wú)誤的,芯片本身性能如何那是設(shè)計(jì)公司的事兒。只要晶圓的WAT測(cè)試是滿足規(guī)格的,晶圓廠基本上就沒(méi)有責(zé)任。如果有失效,那就是制造過(guò)程出現(xiàn)了問(wèn)題。

芯片失效分析常用設(shè)備與方法
三、失效分析基本概念
1.進(jìn)行失效分析往往需要進(jìn)行電測(cè)量并采用先進(jìn)的物理、冶金及化學(xué)的分析手段。
2.失效分析的目的是確定失效模式和失效機(jī)理,提出糾正措施,防止這種失效模式和失效機(jī)理的重復(fù)出現(xiàn)。
3.失效模式是指觀察到的失效現(xiàn)象、失效形式,如開(kāi)路、短路、參數(shù)漂移、功能失效等。
4.失效機(jī)理是指失效的物理化學(xué)過(guò)程,如疲勞、腐蝕和過(guò)應(yīng)力等。
四、芯片失效分析常用的設(shè)備
1.OM 顯微鏡觀測(cè),外觀分析
2.C-SAM(超聲波掃描顯微鏡)
(1)材料內(nèi)部的晶格結(jié)構(gòu),雜質(zhì)顆粒,夾雜物,沉淀物,
(2) 內(nèi)部裂紋。 (3)分層缺陷。(4)空洞,氣泡,空隙等。
3. X-Ray 檢測(cè)IC封裝中的各種缺陷如層剝離、爆裂、空洞以及打線的完整性,PCB制程中可能存在的缺陷如對(duì)齊不良或橋接,開(kāi)路、短路或不正常連接的缺陷,封裝中的錫球完整性。(這幾種是芯片發(fā)生失效后首先使用的非破壞性分析手段)
4.SEM掃描電鏡/EDX能量彌散X光儀(材料結(jié)構(gòu)分析/缺陷觀察,元素組成常規(guī)微區(qū)分析,精確測(cè)量元器件尺寸)
5.取die,開(kāi)封 使用激光開(kāi)封機(jī)和自動(dòng)酸開(kāi)封機(jī)將被檢樣品(不適用于陶瓷和金屬封裝)的封裝外殼部分去除,使被檢樣品內(nèi)部結(jié)構(gòu)暴露。
6. EMMI微光顯微鏡/OBIRCH鐳射光束誘發(fā)阻抗值變化測(cè)試/LC 液晶熱點(diǎn)偵測(cè)(這三者屬于常用漏電流路徑分析手段,尋找發(fā)熱點(diǎn),LC要借助探針臺(tái),示波器)
7.切割制樣:使用切割制樣模塊將小樣品進(jìn)行固定,以方便后續(xù)實(shí)驗(yàn)進(jìn)行
8.去層:使用等離子刻蝕機(jī)(RIE)去除芯片內(nèi)部的鈍化層,使被檢樣品下層金屬暴露,如需去除金屬層觀察下層結(jié)構(gòu),可利用研磨機(jī)進(jìn)行研磨去層。
9. FIB做一些電路修改,切點(diǎn)觀察
10. Probe Station 探針臺(tái)/Probing Test 探針測(cè)試。

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